Skirtingai paruošto ličio disilikato keramikos paviršiaus šiurkštumo tyrimas
| Date |
|---|
2016-04-22 |
ISBN 978–9955–15–???–4.
Tikslas: Nustatyti, kuris ličio disilikato keramikos galutinio paviršiaus paruošimo metodas sukuria lygesnį paviršių ir išsiaiškinti, ar įmanoma redukuotą paviršių išpoliruoti iki pradinio paviršiaus šiurkštumo. Medžiaga ir metodai: 20 ličio disilikato keramikos disko formos 10×4 mm mėginių padalinti į dvi grupes pagal paviršiaus paruošimo metodą – P grupės mėginiai (n=10) poliruoti, G grupės mėginiai (n=10) glazūruoti. Atliktas pradinis šiurkštumo matavimas. Po to atlikta visų mėginių paviršių redukcija 40μm grūdėtumo deimantiniu grąžteliu ir intraoralinio išpoliravimo imitavimas, naudojant NTI CeraGlaze poliravimo sistemą. Po kiekvienos procedūros nustatytas kiekvieno mėginio paviršiaus vidutinis šiurkštumas (Ra) profilometru ir atlikta vieno mėginio iš kiekvienos grupės analizė skenuojančiu elektroniniu ir optiniu mikroskopais. Atlikta statistinė duomenų analizė SPSS 22.0 programinu paketu remiantis Student t, Mann-Whitney ir Wilcoxon testais. Rezultatai: P grupės Ra 1,532 ± 0,729 μm, G grupės - 2,519 ± 1,513 μm po pirminio paviršiaus paruošimo. Ra G grupėje po paviršiaus redukcijos 2,585 ± 0,529 μm, P grupėje - 2,685 ± 0,538 μm. Ra G grupėje po intraoralinio išpoliravimo imitavimo 1,98 3± 1,220 μm, P grupėje - 1,611 ± 0,685 μm. Gautas statistiškai nereikšmingas šiurkštumo skirtumas tarp P ir G grupių po visų paviršiaus paruošimų. P grupėje šiurkštumas po redukcijos statistiškai reikšmingai didesnis lyginant su poliruotų paviršių šiurkštumu. Neatsižvelgiant į mėginių pirminio paruošimo metodą, gautas statistiškai reikšmingai didesnis šiurkštumas po paviršiaus redukcijos (2,635±0,521μm) lyginant su pirminio paruošimo šiurkštumu (2,025 ± 1,261 μm) ir intraoralinio poliravimo imitavimo metu gautu šiurkštumu (1,797 ± 0,981 μm). Tarp šiurkštumo, gauto po pirminio poliravimo ir intraoralinio polir